納米粒徑與電位分析儀用于各種復雜樣品的檢測分析

    Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀是專門用于測量納米級顆粒以及膠體樣品體系的粒度分析儀器，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm。Nicomp 380 已經(jīng)成為眾多研究人員和*科學家的。儀器所擁有*的基線調整自動補償能力和高分辨率多模式算法，多年來不同領域的使用證明了它可以區(qū)分開單峰樣本體系和無約束復雜多峰樣本體系，是研發(fā)的*選擇！Nicomp 380系列儀器是*在應用動態(tài)光散射技術上的基礎上加入多模塊方法的粒度儀?？纱钶d自動進樣系統(tǒng)、自動稀釋系統(tǒng)、多角度探測及高濃度背光散射和在線監(jiān)測等模塊，隨著模塊的升級和增加， Nicomp 380 可以更快更的用于各種復雜樣品的檢測分析。

    該儀器結合了動態(tài)光散射技術（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS 是將電泳和光散射結合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎是準彈性碰撞理論，在實驗時通過在樣品槽中外加一個外電場，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應的動態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實驗測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到ζ-電位值。通過測試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一。并且配備靶電極，經(jīng)久耐用。

    Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀可廣泛應用于醫(yī)藥領域：乳劑，注射劑，脂質體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；半導體領域： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等；特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。